Elaboration de films minces de TiO2 par APCVD : Optimisation des propriétés optoélectroniques et structurales pour applications photovoltaîques .

Abstract

Ce travail porte sur l’élaboration, la caractérisation et l’application des films minces du TiO2 déposés par la technique APCVD. Dans une première partie, nous nous sommes intéressés à l’élaboration des films minces de TiO2 et à la caractérisation de leurs propriétés structurales, électriques et optiques en vue de l’optimisation des paramètres conduisant aux meilleures performances de tels films pour une application photovoltaïque. Dans une deuxième partie, nous nous sommes intéressés à l’évaluation de la contribution de ces couches de TiO2 déposées par APCVD dans l’amélioration du rendement . des cellules solaires au silicium multicristallin, autrement dit, le gain en rendement qu’on peut atteindre en utilisant la technologie APCVD. Selon nos résultats, cette technologie simple et peu coûteuse induit 14.26% de rendement de conversion avec un gain de +3% absolu par rapport à la cellule de référence (sans couche antireflet). Ces résultats encourageants prouvent l’efficacité de la méthode APCVD pour l’amélioration du rendement des cellules solaires au silicium .