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dc.contributor.authorHocine, Dalila
dc.date.accessioned2017-05-15T08:52:16Z
dc.date.available2017-05-15T08:52:16Z
dc.date.issued2013-10-22
dc.identifier.citationOption : Electroniqueen
dc.identifier.otherDOC.ELN.44-13
dc.identifier.urihttps://www.ummto.dz/dspace/handle/ummto/1084
dc.description94 f. : ill. ; 30 cm. (+ CD-Rom)en
dc.description.abstractCe travail porte sur l’élaboration, la caractérisation et l’application des films minces du TiO2 déposés par la technique APCVD. Dans une première partie, nous nous sommes intéressés à l’élaboration des films minces de TiO2 et à la caractérisation de leurs propriétés structurales, électriques et optiques en vue de l’optimisation des paramètres conduisant aux meilleures performances de tels films pour une application photovoltaïque. Dans une deuxième partie, nous nous sommes intéressés à l’évaluation de la contribution de ces couches de TiO2 déposées par APCVD dans l’amélioration du rendement . des cellules solaires au silicium multicristallin, autrement dit, le gain en rendement qu’on peut atteindre en utilisant la technologie APCVD. Selon nos résultats, cette technologie simple et peu coûteuse induit 14.26% de rendement de conversion avec un gain de +3% absolu par rapport à la cellule de référence (sans couche antireflet). Ces résultats encourageants prouvent l’efficacité de la méthode APCVD pour l’amélioration du rendement des cellules solaires au silicium .en
dc.language.isofren
dc.publisherUniversité Mouloud Mammerien
dc.subjectMatériauxen
dc.subjectPhotovoltaîqueen
dc.subjectConversionen
dc.subjectCaractérisationen
dc.subjectAPCVDen
dc.subjectTiO2en
dc.subjectCellule solaireen
dc.titleElaboration de films minces de TiO2 par APCVD : Optimisation des propriétés optoélectroniques et structurales pour applications photovoltaîques .en
dc.typeThesisen


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