Elaboration de nanostructures par gravure chimique assistee par l'argent sur le silicium cristallin et le silicium amorphe 0=Si1 *C*: H

Abstract

Ce manuscrit est consacré à l’élaboration de nanostructures sur le silicium par gravure chimique assistée par l’argent. Au cours de ce travail nous avons mis en évidence la reproductibilité des résultats obtenus par ce procédé qui consiste en une simple attaque chimique. Cette thèse s’est particulièrement intéressée à la synthèse de nanofils. La première partie était réservée au silicium cristallin, nous avons étudié les deux type p et n. Cette étude nous a permis la formation de nanostructures sur le silicium type n en absence d’illumination UV et le développement de couches de nanofils sur le silicium type p. les propriétés de PL des nanofils ont été améliorées par l’ajout des chlorures de fer dans la solution chimique. Dans la deuxième partie nous avons entrepris la croissance de couches minces du silicium amorphe hydrogéné et carboné (a-Si1-x Cx: H) par le procédé PECVD. Ensuite nous avons élaboré avec succès des couches de nanonofils du silicium amorphe par gravure chimique dans une solution contenant l’acide fluorhydrique et les nitrates d’argent.