Titre :	Technologie de base en lightographie
Type de document :	texte imprime
Auteurs :	Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef
Editeur :	Hermès Science Publications
Année de publication :	cop. 2010
Autre Editeur :	Lavoisier
Collection :	(EGEM. Électronique et micro-électronique)
Importance :	(VI-406-VI p.)
Présentation :	ill.
Format :	24 cm
ISBN/ISSN/EAN :	978-2-7462-2445-2
Note générale :	Bibliogr. en fin de chapitres. Index
Langues :	Français
Mots-clés :	Lithographie  Photolithographie  Rayonnement ultraviolet:applications industrielles  Copolymères  Plasmons
Index. décimale :	62138152
Résumé :	Toujours plus vite, plus petit et à moindre coût. Tels sont les maîtres mots des technologies qui façonnent et façonneront le 'nano-monde'. La lithographie est aujourd'hui un outil complexe au cœur d'un procédé technologique de fabrication de micro et nano composants. Technologie pluridisciplinaire par excellence, la lithographie repousse sans cesse les limites de l'optique, de la chimie, de la mécanique, la micro et nano fluidique. Cet ouvrage traite des technologies et procédés incontournables et principalement utilisés dans la fabrication industrielle de microprocesseurs et autres composants électroniques. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, cet ouvrage permettra aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des techniques en constante évolution.
Note de contenu :	Préface. Les imagiciens. L'alchimie de la représentation des origines à la nanosphère. Introduction. Enjeux de la lithographie. Chapitre 1. La photolithographie. Chapitre 2. Lithographie extrême ultraviolet. Chapitre 3. Lithographie électronique. Chapitre 4. L'écriture par faisceau d'ions focalisés. Chapitre 5. L'optique des particules chargées. Chapitre 6. Résines pour la lithographie. Conclusion. Bibliographie. Index.
Permalink :	./index.php?lvl=notice_display&id=10972

Technologie de base en lightographie [texte imprime] / Stefan Landis, Directeur de publication, rédacteur en chef . - [S.l.] : Hermès Science Publications : [S.l.] : Lavoisier, cop. 2010 . - (VI-406-VI p.) : ill. ; 24 cm. - ((EGEM. Électronique et micro-électronique)) .
ISBN : 978-2-7462-2445-2
Bibliogr. en fin de chapitres. Index
Langues : Français

Mots-clés :	Lithographie  Photolithographie  Rayonnement ultraviolet:applications industrielles  Copolymères  Plasmons
Index. décimale :	62138152
Résumé :	Toujours plus vite, plus petit et à moindre coût. Tels sont les maîtres mots des technologies qui façonnent et façonneront le 'nano-monde'. La lithographie est aujourd'hui un outil complexe au cœur d'un procédé technologique de fabrication de micro et nano composants. Technologie pluridisciplinaire par excellence, la lithographie repousse sans cesse les limites de l'optique, de la chimie, de la mécanique, la micro et nano fluidique. Cet ouvrage traite des technologies et procédés incontournables et principalement utilisés dans la fabrication industrielle de microprocesseurs et autres composants électroniques. Destinés aux ingénieurs et chercheurs novices, cet ouvrage permettra aux lecteurs plus expérimentés de parfaire leurs connaissances sur des techniques en constante évolution.
Note de contenu :	Préface. Les imagiciens. L'alchimie de la représentation des origines à la nanosphère. Introduction. Enjeux de la lithographie. Chapitre 1. La photolithographie. Chapitre 2. Lithographie extrême ultraviolet. Chapitre 3. Lithographie électronique. Chapitre 4. L'écriture par faisceau d'ions focalisés. Chapitre 5. L'optique des particules chargées. Chapitre 6. Résines pour la lithographie. Conclusion. Bibliographie. Index.
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